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技術図鑑CMP(表面を平らに磨く)
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技術図鑑

CMP(表面を平らに磨く)

チップの表面は、なぜ磨く?

なぜ平らでないと困るか

チップは配線や膜の層を何十層も積んで作る。層を作ると表面に凸凹ができ、その上に次の層の細い線を光で写そうとすると、焦点が合わずにずれる。だから層を作るたびに、薬品と研磨剤で表面を平らに磨く。これがCMPで、化学と機械の両方で磨くという意味だ。

CMP(表面を平らに磨く):なぜ平らでないと困るかしくみの図。① 層を作ると凸凹光の焦点が合わない② 薬品と研磨剤で磨く研磨パッド押しつけて回す研磨剤(スラリー)の粒が削る③ 平らになった次の層の細い線が正確に写る層を作るたびに磨く。層が増えるほど、研磨剤も増える
しくみの図。

材料の会社の仕事

研磨剤(スラリー)の粒の大きさと薬品の配合が、平らさと削る速さを決める。層の材料ごとに違う研磨剤が要り、先端化で層が増えるほど使う量が増える。消耗品なので、工場の稼働に応じて売れる。

CMP(表面を平らに磨く):材料の会社の仕事流れ。層を作る配線や膜で凸凹にCMP薬品+研磨剤で平らに次の層細い線が正確に写る研磨剤の粒の大きさと薬品の配合が、平らさと速さを決める
流れ。

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出典と生成

出典:手作りの定番(一次資料に依らない一般的な仕組みの説明)

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