技術図鑑
EUV露光
EUV露光は、何が難しい?
なぜ短い光か
回路の線を細く写すには、写す光の波長を短くする必要がある。EUVは従来の露光の光より波長が十数分の一短く、数ナノメートルの線を写せる。この光は空気やレンズを通ると吸収されてしまうので、真空の中で鏡だけを使って反射させ、原版も反射型になる。
光源はスズの粒にレーザーを当てて作り、装置は世界で1社しか作れない。
日本の会社が担う所
原版の素材(マスクブランクス)、原版の欠陥を見つける検査装置、光に反応する感光剤(レジスト)で、日本の会社が高いシェアを持つ。光が弱く原版の傷がそのまま写るので、検査の役割が大きい。
つながる図鑑
この頁から辿れる辺。問いの形で置いてある。
- 会社図鑑レーザーテック(6920)原版を検査するレーザーテックは?
- 会社図鑑HOYA(7741)原版の素材を作るHOYAは?
- 会社図鑑東京応化工業(4186)感光剤の東京応化は?
- 技術図鑑露光は、チップ作りのどの工程?半導体の作り方(露光・成膜・エッチング)
ここへつながる図鑑
出典と生成
出典:手作りの定番(一次資料に依らない一般的な仕組みの説明)
この頁は生成器 v0.1.0 がデータから作った。生成日 2026-09-13。編集方針