フォトマスク

光を通す所と通さない所

フォトマスクは、平らな石英ガラスの板に、光をさえぎる薄い膜（クロムなど）を付け、その膜を回路の模様どおりに削ったものだ。光を当てると、膜の無い所だけ光が抜ける。露光装置はこの光をレンズで縮め、光に反応する薬（感光材）を塗ったウエハーに当てて、回路の模様を写し取る。半導体の露光では、ふつう模様を4分の1に縮めて写す。

マスクの模様は、設計データをもとに電子ビームやレーザーで感光材に描き、現像して、遮光膜を削って作る。チップは何十もの層を重ねて作るので、1つのチップに層の数だけマスクが要る。いちばん細かい線を写すEUV露光では、光がガラスを通らないため、鏡の膜の上に光を吸う模様を載せた反射型のマスクを使う。

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何に使われ、どこが難しいか

半導体のほか、液晶や有機ELのパネル、電子部品、プリント基板を作る工程でも使う。パネル用は1辺が1メートルを超える大きなマスクになる。

難しいのは、欠陥と寸法の狂いだ。マスクの上の小さな傷やごみ、線の太さのずれは、そのマスクで作るすべてのチップに同じように写る。だから描いた後に、光や電子ビームで模様を調べ、線の寸法を測り、欠陥をビームで削ったり足したりして直す。使う時はごみが乗らないよう、ペリクルと呼ぶ薄い膜で表面を覆う。

日本の会社が担う所

テクセンドフォトマスクや大日本印刷は半導体用のフォトマスクを作り、テクセンドフォトマスクは次世代のEUVマスクの開発も進めている。HOYAやエスケーエレクトロニクスはパネル用の大型マスクを手がける。マスクを確かめる装置では、アドバンテストが電子ビームで寸法を測り欠陥を観察する装置を、A&Dホロンホールディングスのホロンが寸法を測るCD-SEMを開発し、ブイ・テクノロジーは光学式の検査やビームによる修正の技術を開発している。

• 会社図鑑テクセンドフォトマスク（429A）
• 会社図鑑HOYA（7741）
• 会社図鑑大日本印刷（7912）

有報に書いている会社

有価証券報告書の「研究開発活動」または「事業の内容」に、この技術を書いている上場会社の一部。会社名の下は有報の原文の一文。

• アドバンテスト（6857）「…の開発· 高速・高密度・高電力化するデバイステストに対応するインタフェース用伝送技術の開発· 最先端フォトマスクのパターン寸法計測、及び欠陥観察・解析を目的とした、電子ビーム計測装置の開発· 最終製品の総合的な性能保証を目的とした、半導体や…」研究開発活動
• HOYA（7741）「FPD用フォトマスクにおいては高精細化するパネルに対応すべく機能性フォトマスクの開発、量産化に取り組んでおります。」研究開発活動
• タクマ（6013）「フォトマスク製造装置向けの磁気シールドチャンバーでは、実験的・理論的にシールド材料や組立加工方法の検討をすすめ、製品価値の向上を目指し開発をすすめております。」研究開発活動
• テクセンドフォトマスク（429A）「6 【研究開発活動】当社グループの研究開発活動は、外販フォトマスク市場におけるシェアトップの地位を堅持し、市場の発展に寄与していく方針のもと、伸長する技術領域における技術開発力の強化や、次世代EUVマスク開発等の新事業領域での研究開発に加…」研究開発活動
• A&Dホロンホールディングス（7745）「株式会社ホロンでは、半導体の回路原版(フォトマスク)が、設計通りに正しく作られているかを寸法測定するCD-SEMを開発しております。」研究開発活動
• ブイ・テクノロジー（7717）「半導体向け小型フォトマスク製造に関連する主な開発要素技術としては、高精度光学式パターン検査技術、超高精度座標計測技術、マスクレス露光技術、フェムト秒レーザ発振技術や荷電粒子ビームによる修正・計測技術の開発などを行っております。」研究開発活動
• エスケーエレクトロニクス（6677）「(大型フォトマスク事業)(1) 研究開発の目的及び体制大型フォトマスク事業におきましては、顧客ニーズにタイムリーかつ的確に対応することを目的として、当社技術開発本部と連結子会社である頂正科技股份有限公司が連携し、研究開発活動に取り組んでお…」研究開発活動
• 日本フイルコン（5942）「(2) 電子部材・フォトマスク事業フォトマスク事業分野では、半導体・MEMS他向けフォトマスクの高精細化を目的とした製造プロセス開発・販売を継続しております。」研究開発活動
• オキサイド（6521）「…6 nmパルスレーザ半導体後工程、光電融合CW/QCW213 nmレーザ半導体検査装置、最先端計測、フォトマスク描画CW257.5 nmレーザ半導体リソグラフィパターン高速検査CW302 nmレーザ中性原子型量子コンピュータ」研究開発活動
• TOPPANホールディングス（7911）「…EGAWAオプティカルフィルム(株)(製 造)TOPPANエレクトロニクスプロダクツ(株)半導体関連フォトマスク、FC-BGA基板など(製造販売)TOPPAN(株)、TOPPAN America Inc.、 テクセンドフォトマスク(株)(製…」事業の内容
• 大日本印刷（7912）「…ニクス部門≫ディスプレイ用光学フィルム、有機ELディスプレイ用メタルマスク、 液晶ディスプレイ用大型フォトマスク、電子シェード、半導体製造用フォトマスク、 小型半導体パッケージ用リードフレーム、LSI設計、 ハードディスクドライブ用サスペン…」事業の内容
• ソシオネクスト（6526）「…、設計ツール、レチクル(半導体製造の露光工程で使用され、設計した回路をシリコンウエハに転写するためのフォトマスク)、試作品製造等といった、開発段階で発生する設計開発コストに対応し、通常、開発のマイルストーン進捗に応じて複数回にわたって計上さ…」事業の内容
• 竹田iPホールディングス（7875）「3半導体関連マスクセグメント竹田東京プロセスサービス株式会社が各種電子部品用のスクリーンマスク、フォトマスクの製造・販売等を、株式会社プロセス・ラボ・ミクロンが半導体パッケージ用バンプマスクや電子部品実装用メタルマスクの製造・販売等を、そ…」事業の内容
• ソノコム（7902）「3【事業の内容】 当社は、主に電子業界向けのスクリーン印刷用のスクリーンマスク及びフォトマスク(電子部品の生産、プリント回路板の表面実装、液晶デバイスの生産用等)の製造販売及び印刷機、スキージ等のスクリーン印刷用資材の仕入販売を行っておりま…」事業の内容
• クボテック（7709）「…成工程の欠陥検査キズ、異物、ハジキ、斑点、ムラの検出ガラス基板検査装置液晶、有機EL、タッチパネル、フォトマスク等のガラス基板欠陥検査キズ、汚れ、異物、泡、端面キズの検出高機能フィルム検査装置ロールツーロール方式における各成膜工程の欠陥検査…」事業の内容